內(nèi)的額定溶液的范圍內(nèi)，溫度越低，電壓應(yīng)該更高，因?yàn)樵撊芤涸诘蜏叵碌难趸さ男纬伤俣缺容^慢，薄膜層相對(duì)密集，為了獲得一定的厚度的氧化膜，陽極氧化過程必須是較高的電壓。當(dāng)該溶液的溫度越高，氧化膜和塊，和氧化膜的生成的溶解速率是松散的，較低的電壓可以適當(dāng)改善氧化膜的質(zhì)量。

陽極氧化溶液溫度的溶液溫度和時(shí)間之間的關(guān)系是低時(shí)，陽極氧化時(shí)間要長(zhǎng)一些。由于該解決方案，在低溫氧化膜緩慢。在較高溫度下的解決方案是氧化成膜速度快的產(chǎn)生。此時(shí)，以縮短的陽極氧化的時(shí)間，否則，由于氧化膜的電阻增加膜的外層溶解，在工件尺寸，膜的表面粗糙度的變化。這些只有在沒有冷卻設(shè)備的措施，并且由于沒有加熱裝置的采取應(yīng)急措施。